T/CASAS 032—2023碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法.pdf，行业分类电子元件及电子专用材料制造。
内容简要 本文件描述了电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅晶片表面金属元素含量的方法。本文件适用于碳化硅单晶抛光片和碳化硅外延片表面痕量金属钠、铝、钾、钙、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜…
T/CASAS 032—2023碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法.pdf，行业分类电子元件及电子专用材料制造。
内容简要 本文件描述了电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅晶片表面金属元素含量的方法。本文件适用于碳化硅单晶抛光片和碳化硅外延片表面痕量金属钠、铝、钾、钙、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜…