GB/T 25188—2010硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法.pdf， 行业分类化工技术。
u3000u3000此标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法，即X射线光电子能谱法（XPS）。此标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量；通常，此标准适用的氧化硅层厚度不大于6 nm。
GB/T 25188—2010
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u3000u3000此标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法，即X射线光电子能谱法（XPS）。此标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量；通常，此标准适用的氧化硅层厚度不大于6 nm。