T/IAWBS 007—20184H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法.pdf，行业分类电子元件及电子专用材料制造。
内容简要 本标准规定了4H-N型重掺杂碳化硅衬底（N型掺杂浓度>5×1018cm-3）上同质外延层（掺杂浓度5×1014cm-3-5×1016cm-3）厚度的红外反射测量方法。本标准适用…
T/IAWBS 007—20184H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法.pdf，行业分类电子元件及电子专用材料制造。
内容简要 本标准规定了4H-N型重掺杂碳化硅衬底（N型掺杂浓度>5×1018cm-3）上同质外延层（掺杂浓度5×1014cm-3-5×1016cm-3）厚度的红外反射测量方法。本标准适用…