T/ZJATA 0017—2023制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备.pdf，行业分类电子和电工机械专用设备制造。
内容简要 本文件包含了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备（以下简称“外延设备”）的产品分类、工作条件、技术要求、试验方法、检测规则、标志、包装、运输和贮存要求内容，对…
T/ZJATA 0017—2023制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备.pdf，行业分类电子和电工机械专用设备制造。
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