GB/T 32281—2015太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法.pdf， 行业分类冶金。
此标准规定了太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷元素体含量的二次离子质谱（SIMS）检测方法。 此标准适用于检测各元素体含量不随深度变化、且不考虑补偿的太阳能级单晶或多晶硅片或硅料中氧、碳、硼和磷元素的体含量。各元素体含量的检测上限均为0．2％（即＜1*10^20 atoms/cm^3），检测下限分别为氧含量5*10^16 atoms/cm^3、碳含量1*10^16 atoms/cm^3、硼含量1*10^14 atoms/cm^3和 磷含量2*10^14 atoms/cm^3 四种元素体含量的测定可使用配有一次离子源的SIMS仪器一次完成。
